WD-M3 ମୃଦୁ ପୃଷ୍ଠ |
ମୃଦୁ ପୃଷ୍ଠଭୂମି |
କ୍ରୋମିୟମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଓଭରଲେଟ୍ ପ୍ଲେଟ୍ |
ଲାଭ:
* ମୃଦୁ ପୃଷ୍ଠ, ଏକକ ପାସ୍ ଓଭରଲେଟ୍, କ surface ଣସି ଭୂପୃଷ୍ଠ ୱେଲ୍ଡ ବିଡ୍ ନାହିଁ |
* ଫ୍ୟୁଜନ୍ ଲାଇନ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ କ୍ରମାଗତ ମାଇକ୍ରୋସ୍ଟ୍ରଷ୍ଟ୍ରକଚର ଏବଂ କଠିନତା |
* ନିମ୍ନ ଘର୍ଷଣ ସହ-ଦକ୍ଷ |
* ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଘୃଣା ଏବଂ ପ୍ରଭାବ ପ୍ରତିରୋଧକ ଗୁଣ |
* ଅପରେଟିଂ ତାପମାତ୍ରା <600℃
* ଅନନ୍ୟ ଚୁମ୍ବକୀୟ ଓଭରଲେରେ ଇଚ୍ଛାଧୀନ |
* ମିଲ୍ ଏବଂ ପ୍ରି-ପଲିସ୍ ହୋଇଥିବା ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଉପଲବ୍ଧ |
ପ୍ରକାରଟେକ୍ନିକାଲ୍ ଷ୍ଟାଣ୍ଡାର୍ଡ |
ଗ୍ରେଡ୍ | ରାସାୟନିକ ରଚନା | | |||||||
| C | Cr | Mn | Si | B | S | P | Nb + Mo + Ti + V + W |
WD-M3 | 2.0-5.0 | 18-35 | <1.5 | <1.2 | <0.6 | <0.033 | <0.033 | <1.5 |
WD-M7 | 2.0-5.0 | 18-28 | <1.5 | <1.2 | <0.4 | <0.033 | <0.033 | 7-10 |
ମ Basic ଳିକ ଉପାଦାନଗୁଡିକ | | WD-M3 | WD-M7 |
ମୂଳ ସାମଗ୍ରୀ | | Q235B | Q235B |
ମୁଖ୍ୟ ମିଶ୍ରିତ କଠିନ ପର୍ଯ୍ୟାୟ | | କ୍ରୋମିୟମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ | | କ୍ରୋମିୟମ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ + କମ୍ପୋଜିଟ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ | |
ପ୍ରାଥମିକ କାର୍ବାଇଡ୍ ଭଲ୍ୟୁମ୍ (%) | > 37 | > 37 |
HV (HRC) ଦ୍ୱାରା ଓଭରଲେଡ୍ କଠିନତା | | 670 (58) | 670 (58) |
ଶୁଖିଲା ବାଲି (g) ସହିତ ରବର ୱିଲ୍ ଆବ୍ରେସନ୍ ପରୀକ୍ଷା | | <0.15g | <0.14g |
ପ୍ରଭାବ ଘୃଣ୍ୟ ପରୀକ୍ଷା (g) | <0.10g | <0.08g |
ମାନକ ଘନତା (mm) | 5/5, 6/7, 8/9, 10/11, 12/11, 17/11 | 17/11, 20/11, 24/13 |
ମାନକ ପ୍ଲେଟ୍ ଆକାର (mm) | 1000 * 3000, 600 * 3000 | 600 * 3000 |
ସୁପାରିଶ କରାଯାଇଥିବା ଆବେଦନ | | ସାଧାରଣ ଘୃଣ୍ୟତା | | ଅତ୍ୟଧିକ ଘୃଣ୍ୟତା | |
